笔趣书屋

手机浏览器扫描二维码访问

第四百一十四章 你到底为什么回国（第1页）

徐佑知道，黄思白最近一直在魔都，想要来蓟京大学一趟，其实还是挺不容易的。

“最近还好，也正好要回总公司一趟，所以就过来找您了。”

黄思白笑着说道。

听黄思白这么说，徐佑总算没有什么心理负担了。

简单的询问了几句后，黄思白开始详细的给徐佑讲解起了，自己最近的这个成果。

“徐教授，最近我做的研究，是有关EUV光刻机的三维掩模成像技术。”

“三维掩模成型技术？”

徐佑问道。

“是的，徐教授。

三维掩模成像技术，对EUV光刻成像质量有很大的影响。

三维掩模成像模型，是进行EUV光刻成像彷真的基础。”

简单的说，光刻机的工作原理，与照相机有一些类似。

光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，能够对涂有光刻胶的薄片曝光。

光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上。

这样一来，薄片就具有电子线路图的作用了。

只是，与照相机的二维成像不同，光刻机光刻出的电子元件和电路图，是三维的成像。

这就是黄思白这项成果的重要意义。

听着黄思白的讲解，徐佑越发的兴奋起来。

“黄工，你带相关的资料过来了吗？可不可以让我看一下更详细的内容？”

“嗯，徐教授，我带了，等我开一下电脑。”

黄思白也是第一次和徐佑进行学术上的交流，显得有些紧张和激动。

黄思白没有想到，徐佑对于这些不属于他领域上的学术问题，竟然会问得这么仔细。

徐佑的专业程度，甚至并不亚于EUV光刻机项目组的那些科研人员。

“黄工，这里掩模衍射谱的计算，是通过傅里叶变换得到的吧？”

徐佑指着资料中的一处问道。

“是的，徐教授，当掩模厚度较小，掩模图形尺寸较大时，掩模衍射谱可以采用薄掩模模型计算。

通过傅里叶变换，得到掩模Kirchhoff远场衍射的结果……”